Nikon Research Corporation of America 1399 Shoreway Rd., Belmont, CA 94002;
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Optical Lithography; ArF Immersion; Evolution;
机译:光刻:EUV波长的光刻
机译:高NA EUV光刻中的波导效应:将EUV光刻扩展到4 nm节点的关键
机译:光子前沿:EUV光刻-EUV光刻技术尚未进入晶圆厂
机译:不含EUV的光学光刻
机译:预测由于光学和EUV光刻制造工艺的相互作用而导致的器件晶圆上的覆盖错误
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:CO 2 sub>激光产生等离子体光学光刻的EUV光源的研制
机译:光化掩模成像:sHaRp EUV显微镜的最新结果和未来方向。会议:极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:期刊出版日期:2014年4月17日。