机译:减少高密度等离子体多晶硅栅极蚀刻过程中由等离子体氧化引起的硅凹陷
机译:在高密度等离子体中蚀刻多晶硅栅极期间的轮廓演变和纳米级线宽控制
机译:高密度等离子体中多晶硅栅极蚀刻过程中的纳米级线宽控制
机译:高密度等离子体蚀刻:栅极氧化物损伤研究
机译:III型氮化物的高密度等离子体蚀刻:工艺开发,设备应用和损坏修复。
机译:通过金属纳米颗粒辅助等离子体蚀刻形成的半导体锥形纳米孔电压门控离子传输
机译:高密度氯基等离子体中多晶硅栅刻蚀的原子尺度细胞模型和轮廓模拟:钝化层形成对特征轮廓演变的影响
机译:用于器件应用的III族氮化物薄膜的高密度等离子体蚀刻