Boston University.;
机译:高密度自旋电子器件的离子束刻蚀工艺及其通过氧淋淋后处理的损伤恢复
机译:远程氢等离子体在Ge基器件的选择性处理中的应用:结晶,蚀刻和金属化
机译:等离子蚀刻和减少损伤的一系列建模:用于设备处理的垂直集成计算机辅助设计
机译:高密度等离子刻蚀的iii族氮化物膜在器件中的应用
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:聚合物的喷墨蚀刻及其在有机电子器件中的应用
机译:用于场发射显示器的高密度空心阴极等离子体蚀刻
机译:用于器件应用的III族氮化物薄膜的高密度等离子体蚀刻