机译:减少高密度等离子体多晶硅栅极蚀刻过程中由等离子体氧化引起的硅凹陷
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机译:在高密度等离子体中蚀刻多晶硅栅极期间的轮廓演变和纳米级线宽控制
机译:高密度等离子体中多晶硅栅极蚀刻过程中的纳米级线宽控制
机译:Cl_2 / O_2等离子体中多晶硅栅刻蚀过程中特征轮廓演变和微观均匀性的模型分析
机译:气态氯等离子体中多晶硅栅极蚀刻过程中等离子体诱导的薄氧化物损伤的评估
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:NF3和F3No等离子体的氧化硅蚀刻方法具有残余气体分析仪
机译:薄栅氧化物多晶硅等离子体刻蚀中微缝的形成
机译:用于监测氯 - 氦等离子体中多晶硅的等离子体蚀刻期间的蚀刻均匀性的光学诊断仪器。