首页> 外文会议>日本金属学会秋期大会 >(P77-P0201)ニッケルの触媒作用を用いたパルス化直流プラズマCVD 法による立方晶窒化ホウ素の生成に関する研究
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(P77-P0201)ニッケルの触媒作用を用いたパルス化直流プラズマCVD 法による立方晶窒化ホウ素の生成に関する研究

机译:(P77-P0201)采用镍催化作用的脉冲DC等离子体CVD法形成立方氮化物的形成

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摘要

立方晶窒化ホウ素は,生成に高エネルギー状態が必要であることが知られており1),工業的には溶媒を用いて,六方晶窒化ホウ素から高温高圧状態で変態させることなどによって生産されている.このようにして得られた立方晶窒化ホウ素は,その生成に多くのエネルギーや特別な装置を必要とすることから高価なものとなってしまっている.そこで本研究では,ニッケルの触媒作用を用いてホウ酸から立方晶窒化ホウ素を直接合成することで従来の手法より生成コストを下げることを目的としている.
机译:已知立方硼氮化物具有高能量条件的形成1),在工业上,通过使用溶剂从高温和高压中从六边形氮化硼转化来制备。有。 由此获得的立方体氮化物变得昂贵,因为它需要许多能量和特殊装置的生产。 因此,在该研究中,本发明的目的是通过使用镍催化直接合成来自硼酸的立方硼氮化物,从常规方法中降低生产成本。

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