x-ray transmission gratings; e-beam lithography; x-ray DOE;
机译:基于X射线光刻和电子束光刻的高长宽比亚波长光栅的制作
机译:通过多层沉积制备200 nm周期厘米面积的硬X射线吸收光栅
机译:在绝缘体上硅晶片上制造200 Nm周期的闪耀传输光栅
机译:用电子束光刻制备200nm周期X射线传输光栅
机译:X射线和电子束光刻中的电子物质相互作用。
机译:使用电子束光刻写入的相位掩模通过近场全息术制造的软X射线变化线间隔光栅
机译:高效闪光光栅的制造与复制灰度电子束光刻和UV纳米压印光刻
机译:通过具有50nm线宽的X射线掩模的三电平电子束光刻制造,以及通过X射线纳米光刻复制