Metal-organic deposition (MOD) method; YBCO/CeO_2/Ni-5W tape; RABiTS method;
机译:通过无氟金属有机沉积在CeO_2缓冲的氧化钇稳定的氧化锆衬底上制备外延YBa_2Cu_3O_(7-y)薄膜
机译:通过激光化学气相沉积法在具有LaMnO_3 / MgO / Gd_2Zr_2O_7缓冲层的Hastelloy C276金属基底上制备双层YBa_2Cu_3O_(7-x)/ CeO_2薄膜
机译:无氟金属有机沉积在CeO_2缓冲的氧化钇稳定的氧化锆衬底上制备高J_c YBa_2Cu_3O_(7-y)薄膜
机译:在Ni-5AT上制备外延YBA_2CU_3O_(7-Y)薄膜和CEO_2缓冲层。通过MOD方法的%W基板
机译:氮化锆/氮化铝缓冲层,用于在硅基板上外延生长(铟,镓)氮化物。
机译:通过自组装的PtSe2缓冲层在SiO2 / Si上可扩展外延生长WSe2薄膜
机译:使用snO2缓冲层在蓝宝石衬底上生长的外延VO2薄膜中的应变效应
机译:在具有纹理化缓冲层的柔性Ni基合金基底上制备高质量YBa2Cu3O(7-δ)厚膜