反应溅射法在立方织构镍基底上制备CeO_2缓冲层

摘要

采用反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上制备了CeO2缓冲层。以Ar/H2混合气体为预沉积气体,有效地抑制了基底的氧化。在基片温度为650℃,气压为26Pa的条件下沉积的CeO2薄膜具有纯c轴取向。X射线θ-2θ扫描、极图分析、Φ扫描结果表明,CeO2薄膜有良好的立方织构,其Φ扫描半高宽(FWHM)为9.0°。扫描电镜观察表明,薄膜致密且没有裂纹。