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钇钡铜氧(YBa_2Cu_3O_7)涂层超导用Ni基片上立方织构NiO缓冲层的制备

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摘要

本研究完成了在具有立方织构的Ni基带上用外延生长法制备NiO缓冲层的工作。用此方法制成的NiO膜具有很强的立方织构 ,其 ( 111)的Φ扫描峰的最大半高宽 (FWHM )值达到 11°。这种NiO膜的形成为进一步溅射沉积具有双轴取向的YBa2

著录项

来源
《金属功能材料》|2000年第3期|19-21|共3页
作者
胡小军; 傅祖明; 邬秋林; 吴学锋; 李克高;
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作者单位

首钢总公司冶金研究院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TM262.051;
关键词
NiO膜; 织构; 缓冲层; 钇钡铜氧涂层超导; 镍基片;
入库时间 2022-08-21 00:11:54

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