【24h】

Heteroepitaxial growth of InSb thin films on a Ge(111) substrate

机译:GE(111)衬底上INSB薄膜的异质生长

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摘要

This paper discusses characteristics of the InSb films on Ge substrate. To grow high quality InSb films on Ge substrate, we tried to optimize the growth conditions. We carried out the direct growth of the InSb films on Ge(111) substrate by using two-step growth procedure. At first, we studied the effect of the growth temperature and thickness of the first layer.
机译:本文讨论了GE基材上INSB膜的特性。为了在GE衬底上生长高质量的INSB薄膜,我们试图优化生长条件。我们通过使用两步生长程序在GE(111)衬底上进行INSB膜的直接生长。首先,我们研究了第一层的生长温度和厚度的影响。

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