photoresist; low k dielectric; resist poisoning;
机译:在193和248 nm光刻胶材料的短时等离子体蚀刻过程中等离子体表面相互作用的研究
机译:低压等离子体刻蚀过程中193和248 nm光刻胶材料的表面改性研究
机译:使用紫外线照射和臭氧水去除多孔低k介电图案中的蚀刻后193 nm光刻胶
机译:低k介电材料集成248和193 nm光致抗蚀剂时的中毒解决方案
机译:深紫外光致抗蚀剂技术中的问题:用于248和213 nm光刻的本体和表面成像抗蚀剂的表征和建模。
机译:多金属氧酸盐杂化材料作为可图案化电介质和光刻胶的研究
机译:聚硅烷光致抗蚀剂193和248nm光刻。
机译:低K介质材料中的电子辐射效应