University of California, Berkeley.;
机译:深紫外激光烧蚀技术[213 nm]与等离子四极杆质谱联用,用于快速测定沥青质中的镍/钒比
机译:暴露于248 nm KrF准分子激光UV辐射的基于Novolak的正性光刻胶的建模
机译:响应面法和人工神经网络研究248 nm准分子激光辅助气态介质中光致抗蚀剂的去除性能
机译:248 nm和157 nm型光刻胶中线边缘粗糙度和临界尺寸控制的显影剂与显影剂相互作用的基础知识
机译:表征在800 nm激发的高电阻率铁掺杂块状砷化镓铟基光电导天线的太赫兹发射特性。
机译:B细胞在胆管癌中表达的Pnoc是生存相关的肝脏2可以是肿瘤微环境中的T细胞耗尽生物标志物:免疫微环境的表征组合单细胞和散装测序技术
机译:聚硅烷光致抗蚀剂193和248nm光刻。
机译:用于193纳米准分子激光光刻的表面成像硅聚合物(重新公布新的可用性信息)