机译:<重点类型=“粗体”>含有胆酸的光敏感生物基共聚物:248Nm光致抗蚀剂的新型功能材料重点>
机译:0.1μm以下过滤对248nm光刻胶性能的影响
机译:用于镶嵌图案的248nm和193nm光刻
机译:使用248nm和193nm光刻的绝缘体上的光子晶体制造在绝缘体上(SOI)
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:MiR-193a-3p和miR-193a-5p分别通过下调Rab27B和SRR抑制人骨肉瘤细胞的转移
机译:248nm抵抗骨干骨干的再生157nm光刻。
机译:环保型聚硅烷光刻胶