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Conference on optical microlithography
Conference on optical microlithography
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1.
A Novel Polymeric Anti-Reflective Coating (PARC) for Better Uniformity Control of Critical Dimension
机译:
一种新型聚合物抗反射涂层(PARC),用于临界尺寸的更好均匀性控制
作者:
Kung Linliu
;
Mai-Rue Kuo
;
Yi-Ren Huang
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
DUV lithography;
critical dimension;
anti-reflective coating;
bottom ARC;
uniformity;
flash memory;
polysilicon;
KrF DUV;
2.
Simulation-based proximity correction in high-volume DRAM production
机译:
高批量DRAM生产中基于仿真的邻近校正
作者:
Werner Fischer
;
Ines Anke
;
Giorgio Schweeger
;
Joerg Thiele
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
optical proximity correction;
OPC;
simulation;
lithography;
DRAM;
high-volume production;
3.
Performance of Very High Repetition Rate ArF Lasers
机译:
非常高的重复率ARF激光的性能
作者:
Jean-Marc Hueber
;
Herve Besaucele
;
Palash Das
;
Rick Eis
;
Alex Ershov
;
Vladimir Fleurov
;
Dmitri Gaidarenko
;
Thomas Hofmann
;
Paul Melcher
;
William Partlo
;
Bernd Nikolaus
;
Scot Smith
;
Kyle Webb
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
ArF laser;
scanner;
NA;
linewidth;
4.
Basic Imaging Characteristics of Phase Edge Lithography and Impact of Lens Aberration on These
机译:
相位边缘光刻的基本成像特性及镜头像差对这些的影响
作者:
Shuji Nakao
;
Itaru Kanai
;
Kouichirou Tsujita
;
Ichirou Arimoto
;
Wataru Wakamiya
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
phase edge lithography;
coherency of illumination;
spherical aberration;
iso-focal tilt;
adjustment of primary spherical aberration;
5.
OPC for logic and embedded applications: The reverse approach
机译:
OPC用于逻辑和嵌入式应用:反向方法
作者:
Uwe Paul Schroeder
;
Tobias Mono
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
OPC;
logic;
embedded;
simulations;
process window;
CD control;
6.
A Strategy for Optimizing Random Code Lithography Patterning in 0.18 um Generation Mask ROM
机译:
优化0.18 UM一代掩模ROM的随机代码光刻图案化的策略
作者:
C.P. Alex Chen
;
Francies Lin
;
T.H.Yang
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
mask ROM;
KrF;
optical proximity correction;
depth of focus;
exposure latitude;
7.
Dynamic change of transmission of CaF_2 single crystals by irradiating with ArF excimer laser light
机译:
用ARF准分子激光照射CAF_2单晶传输的动态变化
作者:
Jochen Alkemper
;
Joerg Kandler
;
Lorenz Strenge
;
Ewald Moersen
;
Christian Muehlig
;
Wolfgang Triebel
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
microlithography;
calcium fluoride;
193 nm;
excimer laser;
laser damage;
8.
Gauging The Performance Of An In-situ Interferometer
机译:
测量原位干涉仪的性能
作者:
Mark Terry
;
Adlai Smith
;
Ken Rebitz
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
interferometer;
aberration;
9.
Simulation based method for sidelobe suppression
机译:
基于模拟的Sidelobe抑制方法
作者:
Christoph Dolainsky
;
Paul Karakatsanis
;
Fritz Gans
;
Rainer Pforr
;
Joerg Thiele
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
sidelobe suppression;
half tone phase shift mask;
lithography simulation;
lens aberrations;
process window;
10.
Characterization of leveling modes on i-line stepper
机译:
I-Line步进电平水位模式的表征
作者:
Amir Wachs
;
David Cohen
;
Ayelet Margalit
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
leveling;
step-and-repeat exposure tool;
field-tilt;
flatness;
defraction;
11.
VUV transmittance of fused silica glass influenced by thermal disorder
机译:
VUV透射熔融二氧化硅玻璃受热紊乱的影响
作者:
Noriaki Shimodaira
;
Kazuya Saito
;
Akira J. Ikushima
;
Toru Kamihori
;
Shuhei Yoshizawa
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
fused silica;
157 nm;
F_2-laser;
vacuum-UV light;
absorption edge;
thermal disorder;
internal transmittance;
12.
Fabrication of small Contact using practical pupil filtering
机译:
使用实用瞳孔过滤的小接触的制造
作者:
Hoyoung Kang
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
lithography;
pupil filter;
contact;
13.
Laser Cleaning of Optical Elements in 157-nm Lithography
机译:
157-NM光刻中的光学元件激光清洁
作者:
T.M. Bloomstein
;
M. Rothschild
;
V. Liberman
;
D. Hardy
;
N.N. Efremow
;
S.T. Palmacci
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
14.
Impact of illumination pupil-fill spatial variation on simulated imaging performance
机译:
照明瞳孔填充空间变化对模拟成像性能的影响
作者:
Terence C. Barrett
;
Terence C. Barrett
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
lithography;
modeling;
partial coherence;
illumination;
specification;
15.
Double exposure technique to reduce line shortening and improve pattern fidelity
机译:
双曝光技术,减少线路缩短和改善模式保真度
作者:
Gerhard Kunkel
;
Scott Bukofsky
;
Shahid Butt
;
Zhijian (George) Lu
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
exposure tools;
double exposure;
line shortening;
resolution enhancement techniques;
16.
Variable Threshold Optical Proximity Correction (OPC) Models for High Performance 0.18 μm Process
机译:
可变阈值光学接近校正(OPC)高性能的型号0.18μm工艺
作者:
Hongmei Liao
;
Shane Palmer
;
Kayvan Sadra
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
optical proximity correction;
variable threshold models;
resolution enhancement techniques;
SRAM;
DUV lithography;
CD control;
proximity-like process effects;
17.
OPC beyond 0.18 μm: OPC on PSM Gates
机译:
OPC超过0.18μm:PSM盖茨上的OPC
作者:
Frank Schellenberg
;
Olivier Toublan
;
Nick Cobb
;
Emile Sahouria
;
Greg Hughes
;
Susan MacDonald
;
Craig West
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
OPC;
PSM;
phase shifting masks;
lithography;
test structures;
reticle metrology;
18.
130-nm KrF Lithography for DRAM Production with 0.68-NA Scanner
机译:
130纳米KRF光刻,用于DRAM生产,0.68纳扫描仪
作者:
E. Kawamura
;
K. Nagai
;
H. Kanemitsu
;
Y. Tabata
;
S. Inoue
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
KrF;
130 nm;
DRAM;
simulation;
chemically amplified resist;
positive;
acetal;
thin film;
multilevel;
19.
Integration of attenuated phase shift mask to 0.13μm technology contact level masking process
机译:
减速相移掩模的整合到0.13μm技术接触电平掩蔽过程
作者:
L. C. Choo
;
O. Park
;
M. J. Sack
;
S. C. Tam
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
attenuated phase shift mask;
0.16μm contact holes;
simulation;
mask bias;
mask error enhancement factor;
20.
Sensitivity of Coma Monitors to Resist Processes
机译:
昏迷监视器抵制过程的敏感性
作者:
Christian Summerer
;
Zhijian George Lu
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
coma;
aberrations;
resist;
5-line monitor;
image displacement;
21.
Improved process latitude photolithography 0.18 μm technology by using multiple focal planes
机译:
通过使用多个焦点平面改进过程纬度光刻0.18μm技术
作者:
Anne-Sophie Callec
;
Jean-Paul Chollet
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
22.
Lens aberration measurement technique using attenuated phase-shifting mask
机译:
镜头像差测量技术采用减振相移掩模
作者:
Akira Imai
;
Katsuya Hayano
;
Hiroshi Fukuda
;
Naoko Asai
;
Norio Hasegawa
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
photolithography;
aberration;
23.
Prospects for Very High Repetition Rate Lasers for Microlithography
机译:
用于微光线法非常高的重复率激光的前景
作者:
Igor Bragin
;
Vadim Berger
;
Rainer Paetzel
;
Uwe Stamm
;
Andreas Targsdorf
;
Juergen Kleinschmidt
;
Dirk Basting
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
excimer laser;
KrF-;
ArF-;
F_2-lasers;
high repetition rate;
micro lithography;
24.
Automatic parallel optical proximity correction and verification system
机译:
自动平行光学校正和验证系统
作者:
Takahiro Watanabe
;
Eiji Tsujimoto
;
Kyoji Nakajo
;
Keiji Maeda
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
OPC;
OPC verification;
parallel processing;
hierarchical processing;
layout editor;
25.
High Repetition Rate Fluorine Laser for Microlithography
机译:
用于微光刻的高重复率氟激光器
作者:
Junichi Fujimoto
;
Shinji Nagai
;
Koji Shio
;
Yasuaki Iwata
;
Kiwamu Takehisa
;
Toshihiro Nishisaka
;
Osamu Wakabayashi
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
fluorine molecular laser;
F_2;
157nm;
VUV;
microlithography;
26.
Continuous Image Writer ― a new approach to fast direct writing
机译:
连续图像作家 - 快速写作的新方法
作者:
Joerg Paufler
;
Stefan Brunn
;
Joachim Bolle
;
Tim Koerner
;
Aenne Baudach
;
Reiner Lindner
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
optical lithography;
excimer laser;
spatial light modulator;
maskmaking;
continuous image writer;
CIW;
27.
Influence of film stress on advanced optical reticle distortions
机译:
薄膜应力对高级光学掩模性扭曲的影响
作者:
Lowell K. Siewert
;
Andrew R. Mikkelson
;
Roxann L. Engelstad
;
Edward G. Lovell
;
Mark E. Mason
;
R. Scott Mackay
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
optical lithography;
photomasks;
thin film stress;
pattern transfer;
28.
Fabrication of isolated gates by negative-tone process and resolution enhancement technology
机译:
负色调过程和分辨率增强技术制造隔离门
作者:
Ryoko Morikawa
;
Noboru Uchida
;
Minoru Watanabe
;
Sachiko Yabe
;
Satoshi Machida
;
Takashi Taguchi
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
negative-tone process;
resolution enhancement technology;
attenuated PSM;
KrF lithography;
0.13μm isolated gates;
29.
Structure end foreshortening: Lithography driven design limitations
机译:
结构结束缩短:光刻驱动设计限制
作者:
Uwe Paul Schroeder
;
Dennis Warner
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
foreshortening;
OPC;
hammerheads;
damascene;
logic;
30.
Fluoropolymers for 157nm Lithography: Optical Properties from VUV Absorbance and Ellipsometry Measurements
机译:
157nm光刻的含氟聚合物:来自VUV吸光度和椭圆测量测量的光学性质
作者:
Roger H. French
;
Robert C. Wheland
;
David J. Jones
;
James N. Hilfiker
;
R. A. Synowicki
;
Frederick. C. Zumsteg
;
Jerald Feldman
;
Andrew E. Feiring
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
pellicles;
157 nm lithography;
fluoropolymers;
vacuum ultraviolet;
VUV spectroscopy;
VUV ellipsometry;
31.
Output stabilization technology with chemical impurity control on ArF excimer laser
机译:
ARF准分子激光器的化学杂质控制输出稳定技术
作者:
Akira Sumitani
;
Satoshi Andou
;
Takehito Watanabe
;
Masayuki Konishi
;
Suguru Egawa
;
Ikcuo Uchino
;
Takeshi Ohta
;
Katsutomo Terashima
;
Natsushi Suzuki
;
Tatsuo Enami
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
ArF excimer laser;
lithography;
laser gas;
gas analysis;
xenon;
impurity;
32.
Advanced F_2-Lasers for Microlithography
机译:
用于微光刻的先进F_2-LASERS
作者:
Klaus Vogler
;
Uwe Stamm
;
Igor Bragin
;
Frank Voss
;
Sergei Govorkov
;
Gongxue Hua
;
Juergen Kleinschmidt
;
Rainer Paetzel
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
excimer laser;
microlithography;
157 nm laser;
F_2 laser;
33.
Adjustment of Bilayer Optical Properties and the Effect on Imaging and Etching Performance
机译:
双层光学性能调整及对成像和蚀刻性能的影响
作者:
Mark Neisser
;
John Biafore
;
Patrick Foster
;
Greg Spaziano
;
Thomas Sarubbi
;
Veerle Van Driessche
;
Grozdan Grozev
;
Plamen Tzviatkov
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
34.
Optimising edge topography of alternating phase shift masks using rigorous mask modelling
机译:
使用严格的掩模建模优化交替相移掩模的边缘地形
作者:
Christian Kalus
;
Christoph Friedrich
;
Leonhard Mader
;
Andreas Erdmann
;
Steffen List
;
Ron Gordon
;
Uwe Griesinger
;
Rainer Pforr
;
Josef Mathuni
;
Guenther Ruhl
;
Wilhelm Maurer
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
topography;
simulation;
alternating phase shift masks;
defects;
intensity balancing;
35.
The Effect of Non-linear Errors on 300mm Wafer Overlay Performance
机译:
非线性误差对300mm晶圆覆盖性能的影响
作者:
Sebastian Schmidt
;
Alain Charles
;
Dietmar Ganz
;
Steffen Hornig
;
Guenther Hraschan
;
John Maltabes
;
Karl Mautz
;
Thomas Metzdorf
;
Ralf Otto
;
Jochen Scheurich
;
Thorsten Schedel
;
Ralf Schuster
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
lithography;
DUV;
I-line;
scanners;
steppers;
overlay performance;
alignment marks;
rework;
36.
An Integrated Phase-shifting Software Solution lor Design to Manufacturing
机译:
一个集成的逐步转换软件解决方案LOR设计
作者:
Hua-Yu Liu
;
Clive Wu
;
Xiaoyang Li
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
37.
Feasibility of Highly Line-Narrowed F_2 laser for 157 nm Microlithography
机译:
高度缩小的F_2激光器的可行性为157nm微光缩影
作者:
Alexander Ershov
;
Thomas Duffey
;
Eckehard Onkels
;
William Partlo
;
Richard Sandstrom
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
F_2 laser;
VUV;
157 nm;
microlithography;
MOPA;
bandwidth;
38.
Aberrations of steppers using Phase Shifting Point Diffraction Interferometry
机译:
使用相移点衍射干涉法的台沟的像差
作者:
P.Venkataraman
;
B.W.Smith
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
aberrations;
point diffraction interferometry;
stepper lenses;
39.
High-resolution Multi Grating Spectrometer for High Quality Deep UV Light Source Production
机译:
高分辨率多光栅光谱仪,用于高质量的深紫色光源生产
作者:
Toru Suzuki
;
Takanori Nakaike
;
Osamu Wakabayashi
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
metrology;
spectral width;
spectrometers;
KrF excimer laser;
ArF excimer laser;
40.
Optical Proximity Correction Considering Mask Manufacturability and Its Application to 0.25μm DRAM for Enhanced Device Performance
机译:
考虑掩模可制造性及其应用于0.25μm的DRAM,用于增强的设备性能,光学邻近校正
作者:
Chul-Hong Park
;
Sang-Uhk Rhie
;
Ji-Hyeon Choi
;
Ji-Soon Park
;
Hyeong-Weon Seo
;
Yoo-Hyon Kim
;
Young-Kwan Park
;
Woo-Sung Han
;
Won-Seong Lee
;
Jeong-Taek Kong
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
OPC;
OPC inspection;
constant threshold model;
variable threshold model;
mask manufacturability;
device performance;
lithography;
41.
Ultra-Narrow Bandwidth Excimer Lasers for 248 nm DUV Lithography
机译:
超窄带宽准分子激光器,适用于248 nm duv光刻
作者:
Rainer Paetzel
;
Hans-Stephan Albrecht
;
Vadim Berger
;
Igor Bragin
;
Matthias Kramer
;
Juergen Kleinschmidt
;
Marcus Serwazi
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
DUV lithography;
excimer laser;
42.
Influence of resist process on the best focus shift due to lens spherical aberration
机译:
抗蚀剂过程对镜头球形像差引起的最佳聚焦移位的影响
作者:
S. Matsuura
;
T. Uchiyama
;
H. Tanabe
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
spherical aberration;
best focus;
CD;
ArF exposure;
half-tone phase shift mask;
resist thickness;
acid diffusion length;
development selectivity;
43.
Overlay budget considerations for an all scanner fab
机译:
覆盖所有扫描仪Fab的预算考虑因素
作者:
Rolf Seltmann
;
Wolfgang Demmerle
;
Marc Staples
;
Anna Maria Minvielle
;
Bernd Schulz
;
Sven Muehle
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
overlay;
alignment;
reticle;
distortion;
ATHENA;
chemical mechanical polishing;
copper-damascene;
44.
Comparison of OPC rules and common process windows for 130 nm features using binary and attenuated phase shift masks
机译:
使用二进制和衰减相移掩模的OPC规则和公共过程窗口的比较了130nm特征
作者:
Michael Reilly
;
Colin Parker
;
Karen Kvam
;
Robert Socha
;
Mircea Dusa
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
OAI;
quasar;
PSM;
OPC;
scatter bar;
UV113l;
45.
Precise Control of Critical Dimension Shrinkage and Enlargement by in-situ Polysilicon Etch
机译:
通过原位多晶硅蚀刻精确控制临界尺寸收缩和扩大
作者:
Kung Linliu
;
Mai-Rue Kuo
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
DUV lithography;
critical dimension;
etching bias;
polysilicon gate;
shrinkage;
enlargement;
polymer deposition;
46.
Interference Lithography at 157 nm
机译:
157 nm的干扰光刻
作者:
M. Switkes
;
T. M. Bloomstein
;
M. Rothschild
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
157 nm;
optical lithography;
spatial coherence;
interference lithography;
47.
A1_2O_3 coatings for 193nm: A nonlinearly absorbing material
机译:
193nm的A1_2O_3涂层:非线性吸收材料
作者:
O. Apel
;
K. Mann
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
DUV;
193nm;
oxide coatings;
absorption;
Al_2O_3;
nonlinear absorption;
conditioning;
48.
Absolute index of refraction and its temperature dependence of calcium fluoride, barium fluoride, and strontium fluoride near 157 nm
机译:
氟化钙,氟化钡和氟化锶附近的绝对折射率及其温度依赖性近157nm
作者:
John H. Burnett
;
Rajeev Gupta
;
Ulf Griesmann
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
index of refraction;
refractive index;
calcium fluoride;
CaF_2;
strontium fluoride;
SrF_2;
barium fluoride;
BaF_2;
157 nm;
49.
Half-lambda imaging with KrF: performance challenges and trade-offs as explored through simulation
机译:
通过模拟探索的ALM-LAMBDA成像:通过模拟探索的性能挑战和权衡
作者:
Steve Slonaker
;
Steve Slonaker
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
50.
Modified proximity function for OPC in laser direct writing
机译:
激光直接写入中OPC的修改接近函数
作者:
Jinglei Du
;
Fuhua Gao
;
Yixiao Zhang
;
Yongkang Guo
;
Chunlei Du
;
Zheng Cui
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
proximity function;
laser direct writing;
micro-lithography;
OPC;
51.
Forbidden Pitches for 130nm lithography and below
机译:
禁止130nm光刻和下方
作者:
Robert Socha
;
Mircea Dusa
;
Luigi Capodieci
;
Jo Finders
;
Fung Chen
;
Donis Flagello
;
Kevin Cummings
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
52.
SVG 157nm Lithography Approach
机译:
SVG 157nm光刻方法
作者:
J. McClay
;
M. DeMarco
;
T. Fahey
;
M. Hansen
;
B. Tirri
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
157nm;
optical lithography;
laser cleaning;
53.
Low kl process optimization for i-line lithography
机译:
L低KL过程优化I线光刻
作者:
Jeong Won Kim
;
Hoon Huh
;
Sang Beom Han
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
i-line lithography;
OAI;
PSM;
BARC;
resist thickness;
DOE;
54.
0.32 μm Pitch Random Line Pattern Formation by Dense Dummy Pattern and Double Exposure in KrF Wavelength
机译:
0.32μm间距随机线图案形成致密虚拟图案和KRF波长的双曝光
作者:
Shuji Nakao
;
Kouichirou Tsujita
;
Ichirou Arimoto
;
Wataru Wakamiya
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
KrF excimer laser lithography;
on-grid layout;
dummy pattern;
double exposure;
modified illumination;
attenuating phase shift mask;
55.
High Repetition Rate Ultra-Narrow Bandwidth 193 nm Excimer Lasers for DUV Lithography
机译:
高重复率超窄带宽193 NM QuV光刻的促进激光器
作者:
Uwe Stamm
;
Rainer Paetzel
;
Igor Bragin
;
Juergen Kleinschmidt
;
Peter Lokai
;
Rustem Osmanov
;
Thomas Schroeder
;
Martin Sprenger
;
Wolfgang Zschocke
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
excimer laser;
microlithography;
193 nm;
56.
A Simpler Attenuated Phase-Shifting Mask
机译:
更简单的减毒的相移掩模
作者:
Zhang Jin
;
Feng Boru
;
Hou Desheng
;
Zhou Chongxi
;
Yao Hanmin
;
Guo Yongkang
;
Chen Fen
;
Sun Fang
;
Su Ping
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
photolithography;
phase-shifting mask;
attenuated phase-shifting mask;
57.
High-NA high-throughput scanner compatible 2 kHz KrF excimer laser for DUV lithography
机译:
用于DuV光刻的高NA高通量扫描仪兼容2kHz KRF准分子激光器
作者:
Hiroaki Nakarai
;
Naoto Hisanaga
;
Natsushi Suzuki
;
Takashi Matsunaga
;
Takeshi Asayama
;
Jun Akita
;
Toru Igarashi
;
Tatsuya Ariga
;
Satoru Bushida
;
Tatsuo Enami
;
Ryoichi Nodomi
;
Yuichi Takabayashi
;
Shoichi Sakanishi
;
Takashi Suzuki
;
Hitoshi Tomaru
;
Kiyoharu Na
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
KrF;
excimer laser;
line narrowing;
pulse power module;
gas circulation system;
gas control;
58.
Properties and potential of VUV lithographic thin film materials
机译:
VUV光刻薄膜材料的性质和潜力
作者:
Michael Cangemi
;
Matthew Lassiter
;
Anatoly Bourov
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
VUV;
157nm lithography;
chrome absorber;
optical thin films;
59.
Image Shortening and Process Development in BEQL Lithography
机译:
Beql光刻中的图像缩短和过程开发
作者:
R.DellaGuardia
;
D. Warner
;
Z. Chen
;
M. Stetter
;
R.Ferguson
;
A. McGuire
;
K. Badger
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
lithography;
image shortening;
optical proximity correction;
ope;
process window improvement;
resolution enhancement;
focus latitude improvement;
exposure latitude improvement;
60.
Precise CD control of 140-nm gate patterns using phase-edge PSM
机译:
使用相位边缘PSM的140nm栅极图案的精确CD控制
作者:
Shoji Hotta
;
Osamu Inoue
;
Hiroshi Fukuda
;
Norio Hasegawa
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
phase-edge phase-shifting mask;
CD variation;
pattern pitch;
defocus;
trim mask;
necking;
61.
Determining and Reducing the Overhead losses in an ASIC type Environment
机译:
确定和减少ASIC型环境中的开销损失
作者:
Dennis B. Ames
;
Dennis B. Ames
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
62.
Laser spectrum line shape metrology at 193 nm
机译:
193 nm的激光谱线形状计量
作者:
Alex I. Ershov
;
G.G. Padmabandu
;
Jeremy Tyler
;
Palash P. Das
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
ArF laser;
193nm microlithography;
metrology;
spectrum;
63.
New Silica Glass 'AQF' for 157 nm Lithography
机译:
157 nm光刻的新石英玻璃“aqf”
作者:
Y.Ikuta
;
S. Kikugawa
;
T. Kawahara
;
H. Mishiro
;
N. Shimodaira
;
S. Yoshizawa
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
silica glass;
F_2 laser;
157 nm;
vacuum-UV light;
64.
Optimization for full chip process of 130nm technology with 248nm DUV lithography
机译:
248NM DUV光刻的130nm技术全芯片过程优化
作者:
Young-Mog Ham
;
Seok-Kyun Kim
;
Sang-Jin Kim
;
Chul Hur
;
Young-Sik Kim
;
Ki-Ho Baik
;
Bong-Ho Kim
;
Dong-Jun Ahn
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
KrF;
design rule;
ID bias;
OAI;
full chip process;
high NA;
process margin;
65.
Application of Attenuated Phase-Shift Masks to sub-0.18μm Logic Patterns
机译:
将衰减的相移掩模应用于Sub-0.18μm逻辑图案
作者:
M. Fritze
;
P.W. Wyatt
;
D. Astolfi
;
P. Davis
;
A. Curtis
;
D. Preble
;
S. Cann
;
S. Denault
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
66.
Self-Sustaining Dose Control System: Ways to Improve the Exposure Process
机译:
自我维持剂量控制系统:改善曝光过程的方法
作者:
Gregory J. Kivenzor
;
Gregory J. Kivenzor
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
optical lithography;
dose control;
exposure;
self-metrology;
DUV;
67.
The Effects of Off-Axis Illumination and Scattering-Bar Optical Proximity Correction on the Impact of Lens Aberration on 130nm Poly Gate Mask - A Simulation Study
机译:
轴轴照明和散射条光学邻近校正对130nm多栅极掩模镜片像差影响的影响 - 模拟研究
作者:
Kent H. Nakagawa
;
Uwe Hollerbach
;
J. Fung Chen
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
CD;
process window;
scattering bars;
SB;
optical proximity correction;
attenuated PSM;
Off-Axis illumination;
68.
Advanced Mix Match Using a High NA i-Line Scanner
机译:
使用高NA I线扫描仪的高级混合和匹配
作者:
Jan Pieter Kuijten
;
Thomas Harris
;
Ludo van der Heijden
;
David Witko
;
John Cossins
;
James Foster
;
Douglas Ritchie
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
69.
Practical software design and experimental research of attenuated phase shifting masks
机译:
衰减相移掩模的实用软件设计与实验研究
作者:
ZHOU Chongxi
;
FENG Boru
;
HOU Desheng
;
ZHANG Jin
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
phase shifting mask;
attenuated;
calculation;
simulation;
software design;
70.
Progress in 157 nm Lithography Development at Intel: Resists and Reticles
机译:
英特尔157纳米光刻开发的进展:抗蚀剂和解
作者:
Veena Rao
;
Eric Panning
;
Ling Liao
;
John Hutchinson
;
Andrew Grenville
;
Susan Holl
;
Don Bruner
;
Raghu Balasubramanian
;
Ron Kuse
;
Giang Dao
;
Jun-Fe Zheng
;
Kevin Orvek
;
Joe Langston
;
Fu-Chang Lo
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
157 nm lithography;
ultra-thin photoresists;
single layer photoresists;
modified fused silica;
71.
Implementation of an automated feedback focus control methodology for Nikon (NSR) i-line and DUV steppers and scanners
机译:
实施尼康(NSR)I-Line和Duv Spepers和Scanners的自动反馈焦点控制方法
作者:
Ivan Lalovic
;
Joseph T. Parry
;
Brent Gwynn
;
Christopher D. Silsby
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
optical lithography;
focus metrology;
automated focus control;
focus monitor;
72.
Optical Holography Used in Optical Microlithography
机译:
光学微型光刻中使用的光学全息术
作者:
Feng Boru
;
Zhang Jin
;
Hou Desheng
;
Chen Fen
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
holography;
photolithography;
holographic microlithography;
73.
Improvement of CD control and resolution by optimizing inorganic ARC process
机译:
优化无机电弧过程改善CD控制和分辨率
作者:
Atsumi Yamaguchi
;
Atsushi Ueno
;
Kouichirou Tsujita
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
organic ARC;
inorganic ARC;
p-SiON ARC;
etching CD shift;
CD control;
74.
The Accuracy of Diffused Aerial Image Model For The Full Chip Level Optical Proximity Correction
机译:
全芯片级光学邻近校正的扩散空中图像模型的精度
作者:
Ji-Suk Hong
;
Hee-Bom Kim
;
Hyoung-Soon Yune
;
Chang-Nam Ahn
;
Yung-Mo Koo
;
Ki-Ho Baik
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
diffused aerial image model;
simulation;
optical proximity correction;
critical dimension;
DRAM;
DUV lithography;
75.
Highly durable, Low CoO, Mass production version of 2 kHz ArF excimer laser for DUV lithography
机译:
高度耐用,低COO,2 kHz ARF准分子激光器的大规模生产版Duv光刻
作者:
Tatsuo Enami
;
Osamu Wakabayashi
;
Ken Ishii
;
Katsutomo Terashima
;
Yasuo Itakura
;
Takayuki Watanabe
;
Takeshi Ohta
;
Ayako Ohbu
;
Hirokazu Kubo
;
Hirokazu Tanaka
;
Toru Suzuki
;
Akira Sumitani
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
lithography;
ArF;
excimer laser;
high durable;
high repetition rate;
low CoO;
76.
A Novel Dual Layer Polymeric Anti-Reflective Coating (PARC) for Sub-0.18μm KrF Lithography
机译:
用于亚-0.18μm的krf光刻的新型双层聚合物抗反射涂层(PARC)
作者:
Kung Linliu
;
Yi-Ren Huang
;
Mai-Rue Kuo
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
DUV lithography;
anti-reflective coating;
BARC;
TARC;
critical dimension;
etching bias;
polysilicon gate;
polymer deposition;
77.
High transmission attenuated PSM ― Benefits and Limitations through a validation study of 33, 20 and 6 transmission masks
机译:
高传输减弱PSM - 通过验证研究的效益和限制,验证研究33%,20%和6%的透射口罩
作者:
Nishrin Kachwala
;
John S. Petersen
;
Martin McCallum
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
78.
Across field and across wafer flare: from KrF stepper to ArF scanner
机译:
横跨领域和横跨晶圆火光:从KRF步进到ARF扫描仪
作者:
Y.Trouiller
;
E.Luce
;
A.Barberet
;
L.Depre
;
P.Schiavone
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
79.
Effect of lens aberrations on pattern placement error
机译:
镜头像差对图案放置误差的影响
作者:
Richard Holscher
;
Pary Baluswamy
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
aberrations;
placement error;
overlay error;
simulation;
illumination;
80.
Understanding the Parameters for Strong Phase Shift Mask Lithography
机译:
了解强相移掩模光刻的参数
作者:
Alexander Tritchkov
;
John Stirniman
;
Jeff Mayhew
;
Michael Rieger
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
alternating phase shift mask;
selective alternating PSM;
PSM proximity effects characterization;
PSM/OPC integration;
81.
Comparison between 2-Phase Shifting Mask and 3-Phase Shifting Mask on Application of Printing Low-Duty-Ratio Contact Array Patterning
机译:
2相移位掩模和3相移位掩模在印刷低造成阵列阵列图案中的比较
作者:
Kuei-Chun Hung
;
Benjamin Szu-Min Lin
;
Hsien-An Chang
;
Alex Tseng
;
Lien-Sheng Chung
;
Wei-Jyh Liu
;
Der-Yuan Wu
;
Peter Huang
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
phase shifting mask;
2-phase shifting mask;
low-duty-ratio contact array;
self-aligned contact plug;
82.
Impact of lens aberration on pattern symmetry of DRAM cells
机译:
镜片像差对DRAM细胞模式对称的影响
作者:
Katsuyoshi Kobayashi
;
Teruyoshi Yao
;
Yuichirou Yanagishita
;
Isamu Hanyu
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
lens aberration;
RMS;
simulation;
zernike polynomial;
zernike coefficient;
83.
High-repetition rate ArF excimer laser for 193-nm lithography
机译:
高重复率ARF准分子激光器为193-nm光刻
作者:
Koji Kakizaki
;
Takashi Saito
;
Ken-ichi Mitsuhashi
;
Motohiro Aral
;
Akihumi Tada
;
Shinji Kasahara
;
Tatsushi Igarashi
;
Kazuaki Hotta
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
excimer laser;
ArF;
193 nm;
microlithography;
line-narrowing;
high repetition rate;
long duration pulse;
84.
Manufacturability of 248nm Phase Shift Lithography for 100nm Transistors
机译:
用于100nm晶体管的248nm相移光刻的可制造性
作者:
Mark E. Mason
;
John Randall
;
Keeho Kim
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
193nm lithography;
248nm lithography;
alternating phase-shift;
cost of ownership;
process latitude;
85.
Degree of Patterning Performance(DOPP) at Low K Lithography
机译:
低k光刻的图案化性能(DoPP)的程度
作者:
Donggyu Yim
;
Seung-Hyuk Lee
;
Myung-Goon Gil
;
Young-Mog Ham
;
Bong-Ho Kim
;
Ki-Ho Baik
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
degree of patterning performance;
aberration;
design rule;
CD variation;
86.
Extending The Performance Of KrF Laser For Microlithography By Using Novel F_2 Control Technology
机译:
通过使用新型F_2控制技术扩展KRF激光器的性能。
作者:
Paolo Zambon
;
Mengxiong Gong
;
Jason Carlesi
;
G. G. Padmabandu
;
Mike Binder
;
Ken Swanson
;
Palash Das
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
KrF laser;
248nm microlimography;
87.
LITHOGRAPHY PROCESS COST CONSIDERATIONS FOR 120NM GROUNDRULES
机译:
光刻工艺成本考虑为120 nm地基规则
作者:
Bernhard Liegl
;
Christian Summerer
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
88.
A Comparison of ArF and KrF Laser Performance At 2kHz For Microlithography
机译:
ARF和KRF激光功率对微光塑2kHz的比较
作者:
Herve Besaucele
;
Palash Das
;
Thomas Duffey
;
Todd Embree
;
Alex Ershov
;
Vladimir Fleurov
;
Steve Grove
;
Paul Melcher
;
Richard Ness
;
G.G. Padmadandu
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
ArF laser;
KrF laser;
193nm microlithography;
248nm microlithography;
exposure sensor feedback;
89.
Depth-of-Focus enhancement of isolated lines by multiple-focus exposure with negative-tone resist process
机译:
用负色调抗蚀剂处理多重聚焦曝光的隔离线的深度焦点增强
作者:
Masashi Fujimoto
;
Tamio Yamazaki
;
Takeo Hashimoto
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
DOF;
isolated line;
multiple-focus exposure;
negative resist;
KrF lithography;
90.
Improve the image control by correcting the lens heating focus drift
机译:
通过校正镜头加热焦点漂移来改善图像控制
作者:
Bwo-Jung Cheng
;
Hsiang Liu
;
Yuanting Cui
;
Jeo Guo
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
2000年
关键词:
lens heating;
FPD;
dummy pattern;
CD;
BF;
image sensor;
91.
Optical proximity correction for submicron lithography by laser direct writing
机译:
激光直接写作亚微米光刻的光学接近校正
作者:
Yongkang Guo
;
Jinglei Du
;
Qizhong Huang
;
Jun Yao
;
Chuankai Qiu
;
Zheng Cui
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
1999年
92.
Measurement of pitch dependency of overlay errors under OAI by using an electric CD measurement technique
机译:
通过使用电CD测量技术测量OAI下覆盖误差的音调依赖性
作者:
Nakgeuon G. Seong
;
Hochul Kim
;
Han K. Cho
;
Jootae Moon
;
Sang Min Lee
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
1999年
93.
New mask having functions of OAI and PSM to realize sub-0.2-um patterns with 248 nm in microlithography
机译:
具有OAI和PSM功能的新掩模,用于在微光刻中实现具有248nm的子0.2μm模式
作者:
Xiangang Luo
;
HanMin Yao
;
XuNan Chen
;
Boru Feng
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
1999年
94.
Watt-level DUV generation by solid state laser for lithography
机译:
用于光刻的固态激光器的瓦特级DUV生成
作者:
Yasu Ohsako
;
Jun Sakuma
;
Andrew Finch
;
Kyoichi Deki
;
Masahiro Horiguchi
;
Toshio Yokota
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
1999年
95.
Index of refraction and its temperature dependence of calcium fluoride near 157 nm
机译:
折射率及其在157nm附近氟化钙的温度依赖性
作者:
John H. Burnett
;
Rajeev Gupta
;
Ulf Griesmann
;
Ted E. Jou
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
1999年
96.
Business dynamics of lithography at very low k1 factors
机译:
非常低的K1因素的光刻业务动态
作者:
Sam Harrell
;
Moshe E. Preil
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
1999年
97.
Illuminator optimization for projection printing
机译:
投影印刷的照明器优化
作者:
Eytan Barouch
;
Steven L. Knodle
;
Steven A. Orszag
;
Michael S. Yeung
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
1999年
98.
Variable-threshold resist models for lithography simulation
机译:
用于光刻模拟的可变阈值抗蚀剂模型
作者:
John Randall
;
Kurt Ronse
;
Thomas Marschner
;
Mieke Goethals
;
Monique Ercken
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
1999年
99.
Full-depth optical proximity correction (FD-OPC) based on E-D forest
机译:
基于E-D林的全深度光学邻近校正(FD-OPC)
作者:
Burn J. Lin
;
Peter Young
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
|
1999年
100.
Assessment of synchronous filtering as an alternative to phase-shifting masks at k1=0.4
机译:
评估同步滤波作为K1 = 0.4的相移掩模的替代方案
作者:
Andrew R. Neureuthr
;
Meng Li
会议名称:
《Conference on optical microlithography》
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1999年
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