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机译:在193和248 nm光刻胶材料的短时等离子体蚀刻过程中等离子体表面相互作用的研究
Univ Maryland, Dept Mat Sci & Engn, College Pk, MD 20742 USA;
Univ Maryland, Dept Phys, College Pk, MD 20742 USA;
Univ Maryland, Inst Res Elect & Appl Phys, College Pk, MD 20742 USA;
Texas Instruments Inc, Dallas, TX 75243 USA;
ITC Irst, Ctr Sci & Technol Res, I-38050 Trento, Italy;
COUPLED FLUOROCARBON PLASMAS; ION-BOMBARDMENT; RESISTS; SILICON; MECHANISM; POLYMERS; DESIGN; LAYER;
机译:低压等离子体刻蚀过程中193和248 nm光刻胶材料的表面改性研究
机译:短时间氟碳等离子体暴露下193 Nm光致抗蚀剂降解的研究Ⅲ。碳氟化合物薄膜和初始表面条件对光致抗蚀剂降解的影响
机译:在短时间碳氟化合物等离子体曝光期间对193 nm光致抗蚀剂降解的研究。二。光刻胶降解的等离子体参数趋势
机译:低压等离子体刻蚀过程中193 nm和248 nm光刻胶材料的表面改性研究
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:纳米等离子蚀刻收缩纳米包裹的超疏水表面
机译:在血液 - 材料界面引起的生物相容性机制的研究:表面吸附的血浆蛋白,蛋白质细胞和细胞 - 细胞相互作用在生物材料表面的影响