E-beam lithography; Proximity effect correction; PEC; Short-range proximity effect; GPGPUs;
机译:灰度电子束光刻的工艺优化和邻近效应校正
机译:通过电子束光刻技术对50 nm的波带片进行纳米加工,并对X射线成像进行局部邻近效应校正
机译:通过电子束光刻中的图案辅助邻近效应校正来控制区域形状,以提高X射线光学器件的效率
机译:使用GPGPU的电子束光刻中近程距离效应校正算法的优化
机译:使用线性编程技术实施电子束邻近效应校正,以制造非对称领结天线。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:REBL直接写入电子束光刻系统的无损压缩算法
机译:电子束光刻的邻近效应校正程序