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有机硅表面活性剂的用途、改善电子束光刻胶灵敏度的方法、电子束光刻胶及其制备与使用

摘要

本发明涉及一种有机硅表面活性剂的用途、改善电子束光刻胶灵敏度的方法、电子束光刻胶及其制备与使用,在制备电子束光刻胶时,加入有机硅表面活性剂。电子束光刻胶包括如下质量百分比的各组分:聚甲基丙烯酸甲酯2~15%;溶剂84.85~97.998%;有机硅表面活性剂0.002~0.15%。制备方法:将电子束光刻胶的各组分混合,得到电子束光刻胶。使用方法:将电子束光刻胶涂布在硅片上,依次经过前烘、曝光和显影,得到光刻图案。本发明提出有机硅表面活性剂用于改善电子束光刻胶灵敏度,该电子束光刻胶具有较佳的灵敏度。

著录项

  • 公开/公告号CN113671796A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江苏汉拓光学材料有限公司;

    申请/专利号CN202110982032.6

  • 发明设计人 傅志伟;梅崇余;潘新刚;冉瑞成;

    申请日2021-08-25

  • 分类号G03F7/075(20060101);G03F7/004(20060101);G03F7/16(20060101);G03F7/32(20060101);G03F7/40(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构31313 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人陶柳涛

  • 地址 221132 江苏省徐州市徐州经济技术开发区软件园E1综合楼12A13

  • 入库时间 2023-06-19 13:20:03

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