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【24h】

A 0.1-/spl mu/m self-aligned-gate GaAs MESFET with multilayer interconnection structure for ultra-high-speed ICs

机译:具有多层互连结构的0.1- / splμ/μm/ m自对准栅GaAs MESFET,用于超高速IC

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摘要

We have developed the technologies to fabricate about 0.1-/spl mu/m-gate-length GaAs MESFETs with a multilayer interconnection structure. We fabricated excellent high-frequency performance of a 0.06-/spl mu/m-gate-length MESFET having current-gain cutoff frequency (f/sub T/) of 168 GHz. Using 0.13-/spl mu/m-gate-length MESFETs, we also fabricated an ultra-high-speed decision circuit operating up to 32 Gbit/s.
机译:我们已经开发出了制造具有多层互连结构的约0.1 / spl微米/米栅极长度的GaAs MESFET的技术。我们制造了具有0.06 / spl微米/米栅极长度的MESFET的出色的高频性能,其电流增益截止频率(f / sub T /)为168 GHz。使用0.13 / spl的mu / m栅极长度的MESFET,我们还制造了工作速度高达32 Gbit / s的超高速决策电路。

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