机译:在掺杂物和辐射缺陷退火过程中,多层结构中注入和注入的掺杂物的校正再分布,用于生产p-n结系统(第23卷的撤消,第095005号艺术品,2008年)
机译:用多层激光对多层结构中的辐射缺陷退火过程中的掺杂物再分布,以生产注入式整流器
机译:在掺杂物和辐射缺陷退火过程中,注入和注入的掺杂物在多层结构中的重新分布,以产生p-n结系统
机译:在S.I.INP中的BE和SI植入物的单步退火,以最小化完成的P / SUP + // n结的再分配
机译:氢在PECVD沉积的氮化硅薄膜中的重新分布。
机译:在不同的注入后退火后p型铝注入的4H-SiC层上的欧姆接触
机译:通过对Mg或Mg / P注入的InP进行快速热退火而制造的p(+)-n结中的深能级
机译:激光退火对离子注入和硼沉积硅中硼重新分布的影响