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The role of model-based MPC in advanced mask manufacturing

机译:基于模型的MPC在高级掩模制造中的作用

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摘要

This paper describes the use of model-based MPC in mask manufacturing for the 14 nm technology node and beyond, analyzes the requirements and challenges for introducing MPC and highlights its benefits in the mask manufacturing process.
机译:本文介绍了基于模型的MPC在14纳米技术节点及以后的掩模制造中的使用,分析了引入MPC的要求和挑战,并重点介绍了其在掩模制造过程中的优势。

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