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European mask and lithography conference
European mask and lithography conference
召开年:
2017
召开地:
Dresden(DE)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
Electron beam lithographic modeling assisted by artificial intelligence technology
机译:
人工智能技术辅助的电子束光刻建模
作者:
Noriaki Nakayamada
;
Rieko Nishimura
;
Satoru Miura
;
Haruyuki Nomura
;
Takashi Kamikubo
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
electron beam lithography;
machine learning;
point-spread function tuning;
proximity effect;
charging effect;
2.
Latest developments on EUV reticle and pellicle research and technology at TNO
机译:
TNO的EUV掩模版和防护膜研究与技术的最新进展
作者:
Rogier Verberk
;
Norbert Koster
;
Edwin te Sligte
;
Wilbert Staring
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
EUV reticle;
EUV mask infra structure;
pellicle;
optics lifetime;
contamination control;
3.
ILT optimization of EUV masks for sub-7nm lithography
机译:
用于亚7纳米光刻的EUV掩模的ILT优化
作者:
Kevin Hooker
;
Bernd Kuechler
;
Aram Kazarian
;
Guangming Xiao
;
Kevin Lucas
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
Inverse lithography (ILT);
EUV lithography;
OPC;
RET;
SRAFs;
4.
Improvements in the imaging performance of a high volume manufacturing EUV scanner, with a special emphasis on the added value of the new illuminator for increased pupil flexibility
机译:
改进了大批量生产的EUV扫描仪的成像性能,特别强调了新型照明器的附加值,以提高瞳孔灵活性
作者:
Bartosz Bilski
;
Ziyang Wang
;
Friso Wittebrood
;
John M~cNamara
;
Dorothe Oorschot
;
Mark van de Kerkhof
;
Timon Fliervoet
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
high-volume EUV lithography;
source optimization;
contrast optimization;
diffraction;
edge placement error;
5.
Multi-beam mask writer MBM-1000
机译:
多光束口罩书写器MBM-1000
作者:
Hiroshi Matsumoto
;
Hiroshi Yamashita
;
Takao Tamura
;
Kenji Ohtoshi
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
multi beam;
electron beam;
blanking aperture array;
throughput;
shot count;
6.
Multi-Trigger Resist for Electron Beam Lithography
机译:
电子束光刻的多触发电阻
作者:
Carmen Popescu
;
Alexandra McClelland
;
Guy Dawson
;
John Roth
;
Dimitrios Kazazis
;
Yasin Ekinci
;
Wolfgang Theis
;
Alex P.G. Robinson
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
EUV lithography;
molecular resist;
multi-trigger resist;
chemical amplification;
resist sensitivity;
7.
Update on optical material properties for alternative EUV mask absorber materials
机译:
替代EUV掩模吸收体材料的光学材料特性更新
作者:
Frank Scholze
;
Christian Laubis
;
Kim Vu Luong
;
Vicky Philipsen
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
EUV;
optical constants;
optical material parameters;
EUV reflectance;
8.
The role of model-based MPC in advanced mask manufacturing
机译:
基于模型的MPC在高级掩模制造中的作用
作者:
Ingo Bork
;
Peter Buck
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
Photo mask;
MPC;
Mask Proximity Compensation;
mask process;
9.
Parallel Compression/Decompression-based Datapath Architecture for Multibeam Mask Writers
机译:
基于并行压缩/解压缩的多束光罩写入器数据路径架构
作者:
Narendra Chaudhary
;
Serap A. Savari
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
Multibeam mask writer;
Data compression;
Datapath;
Architecture;
Algorithms;
10.
Technical Trends of Large-Size Photomasks for Flat Panel Displays
机译:
平板显示器大尺寸光掩模的技术趋势
作者:
Koichiro Yoshida
;
HOYA Corporation
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
Flat panel display;
LCDs;
OLEDs;
Large Size Photomasks;
Multi Tone Mask;
11.
Challenges for scanning electron microscopy and inspection on the nanometer scale for non-IC application - and how to tackle them using computational techniques
机译:
非IC应用在纳米级扫描电子显微镜和检查中面临的挑战-以及如何使用计算技术应对它们
作者:
Jens Bolten
;
Kerim T. Arat
;
Nezih UEnal
;
Caroline Porschatis
;
Thorsten Wahlbrink
;
Max C. Lemme
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
Scanning Electron Microscopy;
SEM;
Inspection;
Metrology;
Nanofabrication;
Nanodevices;
Simulation;
12.
SEM Auto Analysis: enhancing photomask and NIL defect disposition and review
机译:
SEM自动分析:增强光掩模和NIL缺陷的处理和检查
作者:
Kristian Schulz
;
Kokila Egodage
;
Gilles Tabbone
;
Christian Ehrlich
;
Anthony Garetto
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
Scanning electron microscopy (SEM);
SEM AutoAnalysis (SAA);
nanoimprint lithography (NIL);
defectivity;
disposition;
FAVOR®;
13.
Challenges of Nanostructure-Integration in Fabry-Perot Interferometers as Alternative to Bragg Reflectors - an Example for Match 1:1-, eBeam- and Nanoimprint Lithography
机译:
替代布拉格反射镜的法布里-珀罗干涉仪中纳米结构集成的挑战-匹配1:1,电子束和纳米压印光刻的示例
作者:
Christian Helke
;
Karla Hiller
;
Jens W. Erben
;
Danny Reuter
;
Marco Meinig
;
Steffen Kurth
;
Christoph Nowak
;
Herberth Kleinjans
;
Thomas Otto
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
FPI;
SWG;
PhC;
eBeam;
NIL;
SERS;
14.
Line Edge Roughness measurement through SEM images: Effects of image digitization and their mitigation
机译:
通过SEM图像测量线边缘粗糙度:图像数字化的影响及其缓解
作者:
George Papavieros
;
Vassilios Constantoudis
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
Line Edge Roughness (LER);
Power Spectral Density (PSD);
SEM metrology;
image digitization;
synthesized images;
15.
Advanced metrology by offline SEM data processing
机译:
通过离线SEM数据处理实现高级计量
作者:
Amine Lakcher
;
Loiec Schneider
;
Bertrand Le-Gratiet
;
Julien Ducote
;
Vincent Farys
;
Maxime Besacier
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
CD-SEM;
contour;
metrology;
process variability;
hotspot;
photolithography;
etch;
16.
Contour based etch modeling enablement: from pattern selection to final verification
机译:
基于轮廓的蚀刻建模支持:从图案选择到最终验证
作者:
Jirka Schatz
;
Francois Weisbuch
;
Audrey Lutich
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
SEM contour;
OPC;
EPE;
etch;
model;
17.
Splendidly blended: a machine learning set up for CDU control
机译:
精彩融合:用于CDU控制的机器学习设置
作者:
Clemens Utzny
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
critical dimensions (CD);
CD uniformity (CDU);
Advanced Mask Technology Center (AMTC);
machine learning;
advanced process control;
run to run control;
recursive partitioning;
18.
Machine Learning for Fab Automated Diagnostics
机译:
Fab自动诊断的机器学习
作者:
Manuel Giollo
;
Auguste Lam
;
Dimitra Gkorou
;
Xing Lan Liu
;
Richard van Haren
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
Machine Learning;
Data Mining;
Automated Diagnostics;
Process Optimization;
Root Cause Analysis;
LASSO regularization;
19.
New Overlay Measurement Technique with an i-Line Stepper using Embedded Standard Field Image Alignment Marks for Wafer Bonding Applications
机译:
新型i-Line步进式叠加测量技术,使用嵌入式标准场图像对准标记进行晶圆键合应用
作者:
P. Kulse
;
K. Sasai
;
K. Schulz
;
M. Wietstruck
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
Back to front side alignment;
Infrared illumination;
Through-Silicon Vias;
Wafer Bonding;
20.
Half Circle Chrome Loss by Electrochemical Effects
机译:
电化学效应造成的半圆铬损失
作者:
D. Caspary
;
S. Jaehne
;
P. Nesladek
;
M. Kristlib
;
L. Bahrig
;
A. Feicke
;
M. Kaiser
;
J. Lorbeer
;
T. Wandel
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
chrome loss;
material migration;
chrome defect;
develop rinse;
charging;
21.
Characterizing electron beam induced damage in metrology and inspection of advance devices
机译:
表征电子束在计量学中引起的损坏并检查先进设备
作者:
Abbas Mohtashami
;
Violeta Navarro
;
Hamed Sadeghian
;
Ilan Englard
;
Dror Shemesh
;
Nitin Singh Malik
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
e-beam damage;
scanning probe microscopy;
low-k materials;
22.
Aerial Image Metrology for OPC Modeling and Mask Qualification
机译:
用于OPC建模和掩膜鉴定的航空影像计量学
作者:
Ao Chen
;
Yee Mei Foong
;
Thomas Thaler
;
Ute Buttgereit
;
Angeline Chung
;
Andrew Burbine
;
John Sturtevant
;
Chris Clifford
;
Kostas Adam
;
Peter De Bisschop
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
23.
Experimental verification of Sub-Wavelength Holographic Lithography physical concept for single exposure fabrication of complex structures on planar and non-planar surfaces
机译:
用于平面和非平面表面上复杂结构的单次曝光制造的亚波长全息光刻物理概念的实验验证
作者:
Michael V. Borisov
;
Dmitry A. Chelyubeev
;
Vitaly V. Chernik
;
Peter A. Miheev
;
Vadim I. Rakhovskii
;
Alexei S. Shamaev
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
lithography;
holography;
non-planar surface;
MEMS;
24.
Function Follows Form: Combining Nanoimprint and Inkjet Printing
机译:
功能遵循形式:纳米压印和喷墨印刷相结合
作者:
M. Muehlberger
;
M. J. Haslinger
;
J. Kurzmann
;
M. Ikeda
;
A. Fuchsbauer
;
T. Faury
;
T.Koepplmayr
;
H. Ausserhuber
;
J. Kastner
;
C. Woegerer
;
D. Fechtig
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
Nanoimprint Lithography;
Inkjet Printing;
3D Printing;
nanoimprinting on curved surfaces;
robotics;
machine vision;
25.
Pattern sampling for etch model calibration
机译:
用于蚀刻模型校准的图案采样
作者:
Francis Weisbuch
;
Andrey Lutich
;
Jirka Schatz
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
OPC;
model;
etch;
contour;
sampling;
clustering;
kernel;
parameter space;
SEM;
contour;
26.
Depth-profiling of vertical material contrast after VUV exposure for contact-free polishing of 3D polymer micro-optics
机译:
VUV曝光后垂直材料对比度的深度剖析,用于3D聚合物微光学器件的无接触抛光
作者:
R. Kirchner
;
R. Hoekstra
;
N. Chidambaram
;
H. Schift
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
关键词:
glass transition;
molecular weight;
chain scission;
thermal expansion;
reflow;
multi-photon lithography;
27.
Foreword
机译:
前言
作者:
F.W. Behringer
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2017年
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