机译:反应离子刻蚀对4H-SiC沟道MOSFET的沟道侧壁和底部造成的损伤的光电子纳米光谱
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机译:平面,超结和沟槽低压功率MOSFET的可靠性
机译:使用高纵横比沟槽蚀刻和硼横向扩散技术制造的新型超结沟槽门MOSFET
机译:具有沟槽底部源极触点的高密度,低导通电阻的沟槽横向功率MOSFET。
机译:具有多个外延层的150–200 V分离栅沟道功率MOSFET
机译:沟槽MOSFET制造技术中硅深各向异性蚀刻的细节
机译:具有高迁移率的常闭4H-siC沟槽栅极mOsFET(预印刷)