3D quartz MEMS; Resonator; DRIE;
机译:DRIE用双层刻蚀掩模的高Q值石英谐振器的制造方法
机译:在玻璃干法刻蚀过程中由金属籽晶层控制的自掩膜,以实现光散射表面
机译:在玻璃干法刻蚀过程中由金属籽晶层控制的自掩膜,以进行光学散射
机译:一种干法蚀刻方法,使用深层蚀刻表面的双层蚀刻掩模涂层形状
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:酸蚀作为玻璃陶瓷修复体的表面处理方法第1部分:酸应用方案和蚀刻效果
机译:TA面罩的干蚀刻性与表面氧化物层的氧化状态之间的相关性
机译:电感耦合等离子体(ICp)干蚀刻中三氯化硼/氯气体分子外延生长p型氮化铝镓的刻蚀特性及表面分析