国产 CR39 蚀刻材料双层片蚀刻技术研究

摘要

使用２３９Ｐｕα放射源辐照国产ＳＹ－１型ＣＲ３９片，研究了该片子的双层片电化学蚀刻参数特性。提出的双层片蚀刻技术可以提高蚀刻速度、消除电击穿干扰。实验初步确定的蚀刻条件：化学预蚀刻（７０℃；ＫＯＨ，６ｍｏｌ／Ｌ；３．５ｈ），电化学蚀刻（７０℃；ＫＯＨ，６ｍｏｌ／Ｌ；１．５ｈ；２５ｋＶ／ｃｍ；１．５ｋＨｚ）。利用液体镭盐标准氡源研究了该片子的测氡性能，采用５０×３０ｍｍ扩散取样盒测量，实验确定的氡刻度转换因子为３．５１±０．