机译:用于改进的模拟/射频应用的栅极 - 全绕连接晶体管介电调制和金属T形源/漏极性能评价
机译:Lg = 100 nm T形栅极AlGaN / GaN HEMT,通过MOCVD在高掺杂n + -GaN层具有非平面源/漏再生长的Si衬底上
机译:适用于22nm体PMOS晶体管的HK和MG集成源极和漏极中的高应变SiGe
机译:高度可扩展的-型源极/漏极准SOI MOS晶体管
机译:用于神经形态应用的肖特基源极/漏极氢化非晶硅薄膜晶体管。
机译:用于22nm体PMOS晶体管的HK和MG集成了源极和漏极中的高应变SiGe
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机译:使用阴影沉积技术制备和表征具有50个非均源漏极分子的分子晶体管:朝着更快,更灵敏的分子为基础的器件