optical lithography extension; triple-tone mask (TTM); asymmetrical contact hole; OPC;
机译:光学光刻的延伸,以定义先进的GIGA比特级集成所需的接触孔
机译:衰减相移掩模,用于缓解极端紫外光刻中接触孔图案中的光子散粒噪声效应
机译:基于模型的抗蚀剂和掩模对EUV光刻中低于30 nm接触孔的局部CDU的影响
机译:光学光刻延伸的三色调接触孔面罩的性能
机译:无光掩模光刻的热驱动微快门阵列器件
机译:使用牺牲性纳米颗粒消除散粒噪声的影响电子束光刻制造的接触孔中的孔
机译:光学光刻的延伸,以限定先进的GIGA比特级集成所需的接触孔。
机译:使用光学光刻和相移掩模制造的红外频率选择表面