aberration; layout; pattern matching; projection printing; optical imaging;
机译:光刻成像中像差引起的交替相移掩模的强度不平衡
机译:基于交替相移掩模图像中相邻峰的强度差的光刻投影光学器件的均匀像差测量
机译:使用交替相移掩模在光刻工具中测量投影光学器件的像差
机译:像差是opc的逐步偏移面具的大部分
机译:用于相移掩模设计的广义逆光刻方法。
机译:STED显微镜中使用空间光调制器的二元相位掩模可轻松实现系统对准和基本像差检测
机译:用于低像差灵敏度的交替相移掩模设计
机译:八阶冠状面罩的低阶像差灵敏度