• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 中文期刊>微细加工技术 >100nm分辨率的移相掩模技术

100nm分辨率的移相掩模技术

     
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

介绍了移相掩模技术的基本原理,对几种主要的移相掩模技术进行了比较,指出了各种移相方式的特点和应用局限性,并针对100nm分辨率的技术节点,阐述了各种移相方式在应用中应该解决的问题.

著录项

  • 来源
    《微细加工技术》|2003年第4期|27-32|共6页
  • 作者

    陆晶; 陈宝钦; 刘明; 王云翔; 龙世兵; 李泠;

  • 作者单位

    中国科学院微电子所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029;

    中国科学院微电子所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029;

    中国科学院微电子所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029;

    中国科学院微电子所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029;

    中国科学院微电子所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029;

    中国科学院微电子所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 光刻、掩膜;
  • 关键词

    二元掩模; 移相掩模;

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号