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贾海强; 张玉清; 张慕义; 李岚;
信息产业部电子第十三研究所;
亚半微米; 移相掩膜; 半导体集成电路; 应用;
机译:使用标准相位掩模技术以两倍于布拉格波长的波长制造u0001相移纤维布拉格光栅
机译:平移对称交替移相掩模光栅标记在光刻投影像差线性测量模型中的应用
机译:相位误差对移相掩模的影响,第3部分
机译:通过使用PI / 2相移掩模,通过使用PI / 2相移掩模的光敏纤维和248纳米准分子写入的248-NM准备写入
机译:具有弹性体相掩模的三维纳米加工
机译:在存在较大的B0变化的情况下进行稳健的时移轮辐脉冲设计同时通过并行传输缓解通平面移相B1 +效应和特定吸收率
机译:光 - 热 - 折射玻璃中的体积相掩模。
机译:制造移相掩模空白的方法和制造移相掩模,相移掩模空白和移相掩模的方法
机译:移相掩模坯料,移相掩模的制造方法,以及移相掩模
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