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Microlithography world

中文名称：微光刻世界

ISSN：1074-407X
出版周期：Quarterly

发文量：152

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1.A positive tone photosensitive polyimide for use on a broadband stepper

机译：用于宽带步进器的正型光敏聚酰亚胺
- 作者：Warren W. Flack;Scott Kulas;Craig L. Franklin;Craig C. Schuckert
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2001年第2期
2.Using NILS Part 4: Latent images

机译：使用NILS第4部分：潜像
- 作者：Chris A. Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2001年第4期
3.THE LITHOGRAPHY EXPERT: Bottom antireflection coatings for high numerical aperture imaging

机译：光刻专家：底部抗反射涂层，用于高数值孔径成像
- 作者：Chris A. Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2005年第2期
4.Diffusion and resolution for chemically amplified resists

机译：化学放大抗蚀剂的扩散和分解
- 作者：Chris A. Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第3期
5.Characterizing scanner illuminators to match OPC

机译：表征扫描仪照明器以匹配OPC
- 作者：S. Renwick;H. Nishinaga;H. Magoon
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第3期
6.Topcoat options for immersion resist

机译：防浸面漆选项
- 作者：Yayi Wei;K. Petrillo;P. Benson
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第2期
7.Litho-friendly design: A necessary complement to RET

机译：光刻友好的设计：对RET的必要补充
- 作者：J. Andres Torres
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第2期
8.THE LITHOGRAPHY EXPERT: Diffusion and resolution

机译：光刻专家：扩散与分辨率
- 作者：Chris A. Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第2期
9.The Lithography Expert - Horizontal-vertical bias: Part 2

机译：光刻专家-水平-垂直偏差：第2部分
- 作者：Chris A. Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第1期
10.Mask rule standards: A baby step for DfM

机译：遮罩规则标准：DfM的第一步
- 作者：Mark Mason
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第2期
11.Diffusion and resolution

机译：扩散与分辨率
- 作者：Chris A. Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第2期
12.When DRC ends, DFM begins

机译：DRC结束后，DFM开始
- 作者：Artur Balasinski
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第1期
13.Nanoimprint lithography: the semiconductor industry and beyond

机译：纳米压印光刻：半导体行业及其他
- 作者：Helge Luesebrink
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第1期
14.A defectivity checkpoint for immersion lithography

机译：浸没式光刻的缺陷检查点
- 作者：Scott Warrick;David Cruau;Andrea Mauri;Vincent Farys;Stephanie Gaugiran
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第3期
15.A template infrastructure for step-and-flash imprint lithography

机译：用于分步式闪光压印光刻的模板基础架构
- 作者：Douglas J. Resnick;Ecron Thompson;L. Jeff Myron;Gerard M. Schmid
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第1期
16.How to run a world-class mask operation

机译：如何进行世界一流的口罩手术
- 作者：Franklin Kalk
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第3期
17.A decade of changes

机译：十年的变化
- 作者：M. David Levenson
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2006年第2期
18.Topcoat-free photoresists for 193nm immersion lithography

机译：用于193nm浸没式光刻的无面漆光刻胶
- 作者：Daniel P. Sanders;Linda K. Sundberg;Ratnam Sooriyakumaran;Robert D. Allen
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第3期
19.SEM contour-based OPC model calibration

机译：基于SEM轮廓的OPC模型校准
- 作者：George E. Bailey
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第2期
20.Self-assembled resists for nanolithography

机译：自组装光刻胶用于纳米光刻
- 作者：C.A. Ross
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第2期
21.Immersion lithography for 45nm manufacturing

机译：用于45nm制造的浸没式光刻
- 作者：S. Owa;A. Hazelton;H. Magoon
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第1期
22.THE LITHOGRAPHY EXPERT Line-edge roughness, Part 2

机译：光刻专家线边缘粗糙度，第2部分
- 作者：Chris A. Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第2期
23.Line-edge roughness, Part 2

机译：线边缘粗糙度，第2部分
- 作者：Chris A. Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第2期
24.Laser produced plasma light source for EUVL

机译：激光生产的EUVL等离子光源
- 作者：Hakaru Mizoguchi
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第3期
25.Lithography for mobile displays

机译：移动显示器光刻
- 作者：Elvino da Silveira;Frank Bok Namgung;Griff Resor
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第4期
26.The Lithography Expert: Line-edge roughness, Part 1

机译：光刻专家：线边缘粗糙度，第1部分
- 作者：Chris A. Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第1期
27.Positive publishing

机译：积极出版
- 作者：M. David Levenson
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第2期
28.Double exposure inverse lithography

机译：二次曝光反光刻
- 作者：Amyn Poonawala;Yan Borodovsky;Peyman Milanfar
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第4期
29.Correcting ACLV by mask substrate tuning

机译：通过掩模基板调整来校正ACLV
- 作者：Gidi Gottlieb;Erez Graitzer;Guy Ben-Zvi;Bill Turnquist
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第1期
30.The ultimate solution for 193nm reticle haze?

机译：193nm掩模版雾度的最终解决方案？
- 作者：Oleg Kishkovich;Xavier Gabarre
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第4期
31.Advanced photomask repair and verification

机译：先进的光掩模修复和验证
- 作者：Thomas Scherubl;Christian Ehrlich;Klaus Bohm;Marcus Ramstein
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第2期
32.Mix-and-match e-beam/DUV lithography

机译：混搭电子束/ DUV光刻
- 作者：Hans C. Pfeiffer
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第1期
33.Line-edge roughness, Part 3

机译：线边缘粗糙度，第3部分
- 作者：Chris A. Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第3期
34.Optical behavior of pellicles

机译：防护膜的光学性能
- 作者：Chris A. Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第4期
35.Double patterning lithography for DRAM

机译：DRAM的双图案光刻
- 作者：Seo-Min Kim;Sun-Young Koo;Chang-Moon Lim
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2007年第3期
36.Innovative refractive optics for exposure tool illumination

机译：用于曝光工具照明的创新折射光学系统
- 作者：Bizjak T;Mitra T;Homburg O;Hauschild D;Aschke L
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第2期
- deep ultraviolet;
- NA;
- homogenizers;
37.Technology diversity

机译：技术多样性
- 作者：M.David Levenson
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第3期
38.Manufacturable source mask optimization

机译：可制造的源掩模优化
- 作者：Himel MD;Carriere JTA;Schellenberg FM;Granik Y
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第4期
39.Focus averaging

机译：平均聚焦
- 作者：Chris Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第1期
- intentional;
- wavelength;
- Occasionally;
40.Murphy's Wall

机译：墨菲的墙
- 作者：Levenson MD
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第4期
- optical elements;
- imaging;
- mask patterns;
41.PEB plate optimization for CD uniformity

机译：PEB平板优化CD均匀性
- 作者：Kirsten Ruck;Heiko Weichert;Steffen Hornig;Frank Finger;Goran Fleischer;Dave Hetzer
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第1期
- optimization;
- scatterometry;
- production;
42.OPC for contacts

机译：通讯录的OPC
- 作者：Samuels D;Stobert I
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第2期
- OPC;
- contact;
- MRC;
43.THE LITHOGRAPHY EXPERT Proximity Distance

机译：光刻专家邻近距离
- 作者：Mack CA
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第4期
- optical elements;
- imaging;
- mask patterns;
44.Development of a Production EUV Source

机译：开发生产EUV源
- 作者：Farrar NR;Brandt DC
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第4期
- Produced;
- LPP;
- technology;
45.Automating the CD-SEM recipe process for 45nm technologies

机译：自动化45nm技术的CD-SEM配方过程
- 作者：Kevin Chan;Tom Jackson;Hiroki Futatsuya;Hajime Yamamoto;Morimi Osawa;Ram Peltinov
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第3期
46.Double patterning lithography: The bridge between low k 1 ArF and EUV

机译：双图案光刻：低k 1 ArF和EUV之间的桥梁
- 作者：Jo Finders;Stephen Hsu
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第1期
- sacrificial;
- special;
- integration;
47.Measuring line edge roughness: Fluctuations in uncertainty

机译：测量线边缘粗糙度：不确定性的波动
- 作者：Chris A. Mack
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第3期
48.Accelerating both sparse and dense OPC computation

机译：加速稀疏和密集OPC计算
- 作者：Charlie Albertalli;James Word
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第3期
49.Solving the gate ACLV and ADLV challenges with printing assist features

机译：利用打印辅助功能解决门ACLV和ADLV的挑战
- 作者：Haffner H;Meiring J;Baum Z;Halle S;Mansfield S
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第2期
- ACLV;
- ADLV;
- assist features;
50.Extending lithography to the wafer's edge

机译：将光刻技术扩展到晶圆边缘
- 作者：Tuan Le;Matt Wilson;Raymond Maas
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第3期
51.Thermal aberration control

机译：热像差控制
- 作者：Nakashima T;Ohmura Y;Ogata T;Uehara Y;Matsuyama T;Magoon HH
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第2期
- aberration control;
- lens control;
- critical dimension;
52.Mask specifications: It's not getting any easier

机译：口罩规格：变得越来越简单
- 作者：Mack CA
- 期刊名称：《Microlithography world》 | 2008年第2期
- semiconductor industry;
- critical dimension uniformity;
- OPC;

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