MOSFET; silicon-on-insulator; hole mobility; electron mobility; Ge-Si alloys; high electron enhancement; hole mobility enhancement; thin-body strained Si heterostructures on insulator; Si/strained Si heterostructures on insulator; SiGe/strained Si heterostructures on insulator; fully depleted MOSFET; SiGe;
机译:在绝缘体上锗化硅(SGOI)上制造的应变硅/应变硅锗异质结构p-MOSFET中的空穴迁移率增强
机译:自热对纳米级绝缘体上应变硅和在绝缘体上Sige上生长的应变硅中的金属迁移率N-金属氧化物半导体场效应晶体管的电子迁移率的比较研究
机译:通过SIMOX技术制造的绝缘体上SiGe衬底上的应变Si MOSFET的电子和空穴迁移率增强
机译:绝缘体上薄体应变Si /应变SiGe / Si异质结构中电子和空穴迁移率的提高
机译:具有自洽价子带结构和高k绝缘体的应变锗和钒III p沟道反型层中的空穴迁移率。
机译:单层材料应变横向异质结构中的一维电子气
机译:使用应变si /应变Ge异质结构的高空穴和电子迁移率