ion implantation; semiconductor doping; X-ray emission spectra; doping profiles; high accuracy; rapid dose measurements; ultra-low energy ion implantation; low energy x-ray emission spectroscopy; nondestructive dosimetry; SIMS; complex surface ion yield;
机译:二次离子质谱和低能电子诱导X射线发射光谱法测量带图案晶片的浅As剂量
机译:使用低能X射线发射光谱和全晶片二次离子质谱/角分辨X射线电子光谱技术进行等离子体掺杂二维表征
机译:通过微聚焦掠射X射线荧光和掠入射X射线荧光对Si和Ge中低能离子注入的深度分布进行分析
机译:使用低能量X射线发射光谱,超低能量离子注入的高精度和快速剂量测量
机译:比较了三种X射线发射技术及其在薄膜和块状样品上的应用,包括低能重离子粒子诱导的X射线发射光谱。
机译:通过扫描声学显微镜扫描电子显微镜能量色散X射线光谱法和电感耦合等离子体发射光谱法检查枪声中的金属动员:病例报告
机译:超低能量高剂量注入硅中团簇的结构测定