ultraviolet lithography; photoresists; dielectric thin films; permittivity; antireflection coatings; diluted low dielectric constant material; bottom antireflective coating; resist film; KrF lithography; ArF lithography; optical characteristics; BCB;
机译:用于KrF光刻的底部抗反射涂层的低介电常数FLARE 2.0膜
机译:ArF光刻中使用糊精衍生物的高蚀刻速率底部抗反射涂层和间隙填充材料的研究
机译:自交联底部抗反射涂层和间隙填充材料在ArF光刻中降低升华缺陷的研究
机译:稀释低介电常数材料作为KRF和ARF光刻的底抗反射涂层
机译:用于层间电介质应用的低介电常数材料和工艺。
机译:致力于具有高介电常数和低损耗的柔性介电材料:具有均相分散的CNT和离子液体纳米域的PVDF纳米复合材料
机译:含有用于KRF激光光刻的新型发色团的新型抗反射涂层材料。
机译:单层193nm光刻反射涂层的材料评价