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【2h】

New Antireflective Coating Materials Containing a Novel Chromophore for KrF Laser Lithography.

机译：含有用于KRF激光光刻的新型发色团的新型抗反射涂层材料。

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Kwang-Duk Ahn; Dong Keun Han; Jun-Young Kim; Seong-Hyun Ha; Dae-Youp Lee; Jeong-Lim Nam;
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年度 2001
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2. New Antireflective Coating Materials Containing a Novel Chromophore for KrF Laser Lithography [J] . Kwang-Duk Ahn, Dong Keun Han, Jun-Young Kim, Journal of Photopolymer Science and Technology . 2001,第3期

机译：用于KrF激光光刻的包含新型发色团的新型抗反射涂层材料
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