State Key Laboratory of Tribology Department of Mechanical Engineering Tsinghua University Beijing 100084 China;
Bonding; Finite element analysis; Materials; Passivation; Stress; Wires; Cu/low-k; Finite element method (FEM); Stress conditions; Wire Bonding;
机译:在Cu / low-k互连层下面的Au / Cu丝焊球的机械截面
机译:包装材料对低介电常数键合堆叠倒装芯片Csp可靠性测试的影响
机译:使用铝钝化的铜焊盘在硅芯片上进行重铜丝焊
机译:材料与结构因素对Cu /低k芯片粘合期间Cu / Low-K芯片应力条件的影响
机译:使用Cu-Cu直接键合的3D微电子封装中的热机械问题及其解决方案。
机译:用于进一步缩小超大型集成器件-Cu互连的等离子增强化学气相沉积SiCH膜的低k覆盖层的材料设计
机译:Cu丝缝合粘接的研究。 (报告1)。粘合条件和表面态对粘合性的影响。