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机译:替代性的光刻胶去除工艺可最大程度地减少灰浆等离子体对低k材料造成的损害
机译:等离子体真空紫外线辐射对光致抗蚀剂的改性:聚合物结构和等离子体化学的作用
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机译:H_2O蒸气辅助等离子体化学用于光致抗蚀剂和聚合物去除低钾材料
机译:大气压非平衡等离子体化学处理金刚石薄膜的等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)的实验研究
机译:优化的等离子体辅助双层光致抗蚀剂制造方案用于在多孔聚合物膜上高分辨率地细微制造薄膜金属电极
机译:通过等离子体引发的化学气相沉积大气压 - 压缩和超薄的低k聚合物绝缘层的大气压合成