Institute of Electrical Engineering, Chinese Academy of Science, No.6 Bei-Er-Tiao, Zhong Guan Cun, Beijing 100080, PRC;
aberration sensitivity; high-order; immersion; ArF lithography; polarization; PROLITH;
机译:分辨率增强技术对45 nm节点ArF浸没式光刻术像差灵敏度的影响
机译:ArF水浸式光刻技术的后续产品:EUV光刻技术,多电子束无掩模光刻技术还是纳米压印技术?
机译:用于ArF浸没式光刻的光刻性能的全场分析
机译:高阶像差在ARF浸入光刻中的敏感性的波动
机译:正常和偏心猴子的高阶畸变
机译:进行培训以改善弱视的对比敏感度:校正高阶像差
机译:偏振照明对45nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响
机译:用于arF光刻的酸催化单层抗蚀剂