ARC Photovoltaics Centre of Excellence, The University of New South Wales, Sydney, NSW, Australia;
ARC Photovoltaics Centre of Excellence, The University of New South Wales, Sydney, NSW, Australia;
ARC Photovoltaics Centre of Excellence, The University of New South Wales, Sydney, NSW, Australia;
ARC Photovoltaics Centre of Excellence, The University of New South Wales, Sydney, NSW, Australia;
机译:通过喷墨印刷对二氧化硅和氮化硅介电层进行直接图案刻蚀
机译:用于二氧化硅直接微图案的连续流墨水蚀刻
机译:图案化二氧化硅掩盖的HgCdTe的低粗糙度等离子体蚀刻
机译:用于直接图案蚀刻二氧化硅的喷墨方法
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:通过原位还原通过喷墨印刷银盐在多孔硅上直接图案化银颗粒
机译:通过软溶液直接图案化陶瓷材料的过程 - 喷墨反应方法和喷墨沉积方法的理念 -