首页> 外文会议>Conference on Soft X-Ray and EUV Imaging Systems 3-4 August 2000 San Diego, USA >Extreme ultraviolet source development: A comparison of different concepts
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Extreme ultraviolet source development: A comparison of different concepts

机译:极端紫外线源的发展:不同概念的比较

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摘要

We discuss the results of the studies of Z-pinch sources for photolithographic applications developed by Lambda Physik. We also report the results of fundamental investigations purused by Fraunhofer-Institut fur Lasertechnik, Friedrich-Schiller Universitat Jena, Max-Born Institut Berlin, and Gustav August Universitat Gottingen. The later efforts are supported by German government and steered by the industrial consortium led by Lambda Physik.
机译:我们讨论由Lambda Physik开发的用于光刻应用的Z捏源的研究结果。我们还报告了Fraunhofer-Institut fur Lasertechnik,Friedrich-Schiller耶拿大学,耶拿Max-Born研究所和Gustav August哥廷根大学所主张的基础研究的结果。后来的工作得到了德国政府的支持,并由Lambda Physik领导的工业财团领导。

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