Lincoln Laboratory, Massachusetts Institute of Technology, USA;
机译:使用电子束光刻技术制作的长纤维布拉格光栅相位掩模中的相位误差最小
机译:预测电子投影光刻掩模膜图像放置误差
机译:相移掩膜偏振法:使用相移掩膜监测193 nm高数值孔径的偏振和浸没式光刻
机译:无形相移掩模光刻中的图像放置误差最小化
机译:校正策略以补偿在EUVL掩模卡盘过程中引起的图像放置错误。
机译:使用电子束光刻写入的相位掩模通过近场全息术制造的软X射线变化线间隔光栅
机译:低于45nm光刻的无铬相移掩模技术的表征
机译:使用光学光刻和相移掩模制造的红外频率选择表面