Department of Micro-Nanosystem Engineering, Nagoya University, Nagoya, Japan;
Laboratory of Physics, Helsinki University of Technology, Finland;
MEMS; anisotropic etching; bulk micromachining; concave corners; convex corners; surfactants; NC-200;
机译:基于各向异性湿化学刻蚀的硅体微加工中凸角和凹角的综述
机译:CMOS兼容各向异性蚀刻剂中倒圆的凹面和尖锐边缘凸角的研究
机译:Si {1 1 0}上的各向异性刻蚀:形成具有凸角的微结构的实验和模拟(vol 24,125001,2014)
机译:圆形凹凸和锋利的凸角的微结构在单步湿的各向异性蚀刻中
机译:用于纳米级应用的硅湿各向异性刻蚀机理。
机译:KOH溶液中Si的一步各向异性湿法腐蚀制备的两层微结构
机译:基于各向异性湿化学刻蚀的硅块体微加工中凹凸角的综述
机译:DsmC计算凸面和凹面角孔的超音速自由射流。