Litho Tech Japan Corporation 2-6-6 Namiki, Kawaguchi, Saitama, 332-0034, Japan;
lithography; thick film resist; dissolution rate; proximity printing; resist profile simulation; mask aligner;
机译:二维动态CA方法用于光刻胶刻蚀模拟的改进及其在SU-8光刻胶深紫外光刻模拟中的应用
机译:基于光纤发射的激光强度分布的精确薄膜测量方法:辐射仿真的步骤光发射模型的提议
机译:光纤邻近光强度分布的数值模拟给出光纤的输出端给出光学涡流
机译:SU-8光刻胶中深紫外光强度分布的三维模拟
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:SU-8厚光刻胶紫外光刻工艺的综合模拟
机译:利用厚抗蚀剂薄膜实际测量的邻近光刻模拟研究
机译:从散射光强度测量中确定粒子大小分布的理论方面