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光强度分布测量方法及光强度分布测量装置

摘要

一种能更正确地求得从半导体激光器射出的激光束的光强度分布的光强度分布测量方法及光强度分布测量装置,光强度分布测量装置(10)是用来测量从半导体激光器射出的激光束的光强度的光强度检测装置(12),具有用来测量从半导体激光器(11)射出的激光束与对该光强度检测装置(12)的测量结果用t分布函数算出光强度分布的数据处理装置(13)。

著录项

  • 公开/公告号CN1272774C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-08-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社三协精机制作所;

    申请/专利号CN200310120749.1

  • 发明设计人 酒井博;

    申请日2003-12-05

  • 分类号G11B7/00(20060101);G11B7/08(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人谢喜堂

  • 地址 日本长野县诹访郡

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-02-23

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 7/00 授权公告日:20060830 终止日期:20100105 申请日:20031205

    专利权的终止

  • 2011-02-23

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 7/00 授权公告日:20060830 终止日期:20100105 申请日:20031205

    专利权的终止

  • 2007-01-03

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:20031205

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2007-01-03

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:20031205

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2007-01-03

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:20031205

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2006-08-30

    授权

    授权

  • 2006-08-30

    授权

    授权

  • 2004-09-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-09-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-07-07

    公开

    公开

  • 2004-07-07

    公开

    公开

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