机译:蒙特卡罗揭示的后光学光刻中化学放大抗蚀剂的分辨率,线条边缘粗糙度和灵敏度之间的关系,以及溶解模拟
机译:准分子激光烧蚀厚SiOx膜:蚀刻速率测量和烧蚀阈值模拟
机译:SiO_x厚膜的准分子激光烧蚀:蚀刻速率测量和烧蚀阈值模拟
机译:用溶解速率的测量和光致抗蚀剂中光强度分布的计算研究近距离光刻技术
机译:快速准确的光刻模拟和光学接近度校正,可用于制造的纳米设计
机译:SU-8厚光刻胶紫外光刻工艺的综合模拟
机译:溶出抑制剂在化学扩增的阳性厚膜抗蚀剂中的发展
机译:一种计算机程序,用于通过四点探针测量来计算沉积在导电基板上的薄膜的电阻率