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【24h】

電子ビーム真空溶融により合成したScAl 合金スパッタターゲットを用いた高品質ScAlN 薄膜の成長

机译:电子束真空熔融合成ScAl合金溅射靶材生长高质量ScAlN薄膜

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摘要

AlN 薄膜にSc を添加したScAlN 薄膜の巨大圧電性が報告[1]されて以来,FBAR フィルタなどへの応用研究が盛んに行われている.ScAlN薄膜の圧電性はSc の添加量を増加させることで劇的に増加する.しかし,添加材料であるSc は酸化しやすくスパッタ成膜時に酸素および窒化炭素の高速負イオンが結晶性を劣化させることが指摘されている[2].我々は,Sc 粒を電子ビーム照射による真空溶解することで酸素を取り除いたScAl 合金ターゲットの作製を試みた.
机译:由于已经报道了将Sc添加到AlN薄膜中的ScAlN薄膜的巨大压电性[1],因此已经积极地进行了FBAR滤波器等的应用研究。 ScAlN薄膜的压电性随Sc添加量的增加而急剧增加。但是,已经指出,作为添加材料的Sc容易被氧化,氧和氮化碳的快速负离子会降低溅射沉积过程中的结晶度[2]。我们试图生产一种ScAl合金靶材,该靶材通过通过电子束辐照真空熔化Sc晶粒而去除了氧气。

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