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高次単一分子機能を目指した新規ヘテロ金属ポルフィリンアレイの合成と特性の評価

机译:具有高阶单分子功能的新型杂金属卟啉阵列的合成与表征

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摘要

近年、Break Junction (BJ) 法に代表される単一分子電気伝導測定手法の確立により、単一分子エレクトロニクス分野が大きな進展を遂げている[1]。ポルフィリン環は、単分子電導性が高いこと、中心金属や周辺置換基の就職が容易なことから、単一分子素子の分子骨格としてよく用いられている。当研究室では、逐次合成法による中心金属の並び方を自由に設計できるヘテロポルフィリンアレイの合成法を報告している(図1、分子1, 3)[2]。また、二量体1 の単一分子コンダクタンスが部分透過確率Ti の積で表せることを報告している[3]。ポルフィリンにおける電気伝導にはHOMOが関与していることが分かっているが[4]、HOMO順位の異なる分子をつなげることで、単一分子メモリや負の微分抵抗のような高次の性質が創発することが期待される(図2)。
机译:近年来,通过建立以Break Junction(BJ)方法为代表的单分子电导率测量方法,单分子电子学领域取得了长足进步[1]。卟啉环由于其高的单分子导电性以及易于接近中心金属和外围取代基而常被用作单分子元素的分子骨架。在我们的实验室中,我们已经报道了一种合成杂卟啉阵列的方法,其中可以通过顺序合成方法自由设计中心金属的排列(图1,分子1,3)[2]。另外,据报道,二聚体1的单分子电导可以由部分传输概率Ti [3]的乘积表示。众所周知,HOMO参与了卟啉的导电[4],但是通过连接具有不同HOMO顺序的分子,出现了诸如单分子记忆和负微分电阻之类的高阶特性。有望做到(图2)。

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