【24h】

Performance and Fabrication of GaN/AlGaN Power MMIC at 10 GHz

机译:GaN / AlGaN功率MMIC在10 GHz时的性能和制造

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摘要

High performance and fabrication of a coplanar 2 stage power amplifier based on a GaN/AlGaN HEMT technology on 2-inch SiC substrate has been realized. At 10 GHz the coplanar MMIC delivers a maximum output power of 13.4 W, measured on wafer in pulsed mode, a linear gain of 20 dB and a maximum PAE of 25 % at a V_(DS) bias of 35 V and compression level of 5 dB. The yield of the MMICs across 2-inch wafer is 65 %.
机译:已经实现了在2英寸SiC衬底上基于GaN / AlGaN HEMT技术的共面2级功率放大器的高性能和制造。在10 GHz时,共面MMIC在脉冲模式下在晶片上测得的最大输出功率为13.4 W,线性增益为20 dB,V_(DS)偏置为35 V,压缩水平为5时,最大PAE为25%。 D b。跨2英寸晶圆的MMIC的产率为65%。

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