Asahi Glass Co., Ltd. 1150, Hazawa-cho, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa-ken, 221-8755, Japan;
fluoropolymer; FUGU; transparency; dissolution rate; Co-polymerization;
机译:开发用于193 nm干法和浸没式光刻的新型抗蚀剂材料
机译:用于193 nm干式和浸没式光刻的新型材料的开发
机译:用于193 nm光刻的分辨率提高材料,其包含2-羟基苄醇和聚乙烯醇,且具有均匀的抗蚀剂图案收缩率
机译:开发193纳米干燥和浸入式光刻的新型抗蚀剂材料
机译:用于电子束光刻的无机抗蚀剂的开发:新型材料和模拟。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:开发193-NM干燥和浸入式光刻的新型材料
机译:193-Nm光刻的全干抗蚀剂工艺