一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及光刻胶组合物

摘要

本发明公开了一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及光刻胶组合物。本发明的光产酸剂如式I所示。含有本发明的光产酸剂的光刻胶的具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点，具有良好的应用前景。