机译:用于ArF干法和浸没式光刻的新型光产酸剂:与应用相关的特性
non-ionic; photoacid generator; ArF; strong acid; chemically amplified resist;
机译:用于ArF干法和浸没式光刻的新型光产酸剂:与应用相关的特性
机译:透明度与效率:ArF光刻光产酸剂设计的重要考虑因素
机译:ArF光刻用光产酸剂设计中的性能折衷
机译:用于ArF准分子激光光刻的正化学放大抗蚀剂,由新型透明光酸产生剂和脂环族三元共聚物组成
机译:用于浸没式光刻的水性和有机液体的折射率和吸收率。
机译:用于紫外或近紫外LED的碘鎓盐的设计用于光酸产生剂和聚合目的
机译:透明度与效率:ARF光刻光拍发电机设计的重要考虑因素。
机译:用于arF光刻的酸催化单层抗蚀剂